[IT]  엔비디아, 칩 팹 리소그래피를 가속화하여 효율을 크게 향상시킨 cuLitho GP 공개

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엔비디아, 칩 팹 리소그래피를 가속화하여 효율을 크게 향상시킨 cuLitho GP 공개

다소 아이러니하지만, 컴퓨터 성능 향상의 주요 동인 중 하나는 사실 컴퓨터 성능 향상입니다. 더 빠른 칩을 설계하려면 더 빠른 칩이 필요하며, 이는 프로세서 설계 프로세스의 여러 계층에서 사실입니다. 가장 먼저, 실제로 이러한 칩을 만들 때 TSMC와 같은 회사는 제조용 포토마스크를 만들기 위해 컴퓨팅 리소그래피에 막대한 컴퓨팅 성능을 소비합니다.

이러한 포토마스크를 제작하는 것은 젠슨 황이 오늘 GTC에서 지적했듯이 "근본적으로 물리학의 한계에 부딪히는 이미징 문제"입니다. 엔비디아는 최근 컴퓨터 이미징에 많은 시간과 비용을 투자해 왔으며, 이제 그 전문성을 제조 공장에 적용할 때가 된 것 같습니다. 이 회사는 방금 NVIDIA GPU에서 컴퓨터 리소그래피를 가속화하기 위한 라이브러리인 "cuLitho"를 발표했습니다.

포토마스크는 칩을 매우 정밀하게 에칭하는 데 사용됩니다. 마스크를 만드는 작업은 연산 집약적입니다.

엔비디아는 보도 자료에서 cuLitho에 대해 몇 가지 중요한 주장을 펼쳤는데, 이는 황이 GTC에서 말한 내용을 반영합니다. 계산 리소그래피는 고도로 병렬화된 프로세스로, 이를 CPU에서 GPU로 옮기면 전력 소비가 35MW에서 "단지" 5MW로 1/7로 줄어든다고 합니다. 또한 성능도 빨라집니다: 황은 현재 CPU에서 2주 정도 걸리는 프로세스를 NVIDIA GPU와 cuLitho를 사용하면 "단 8시간 근무"로 수행할 수 있다고 말했습니다.

그의 말이 일반적인 경우에 정확하다면, 이런 종류의 가속화는 프로세서 제조에 정말 혁신적일 수 있으며, 왜 이전에는 이런 일이 이루어지지 않았는지 궁금해집니다. NVIDIA는 "장기적으로 볼 때, cuLitho는 더 나은 설계 규칙, 더 높은 밀도, [그리고] 더 높은 수율을 가능하게 할 것"이라고 말하며, 이 모든 것이 제조 업계에서 매우 바람직한 일임이 분명합니다.

ASML은 EUV 리소그래피가 가능한 장비를 생산하는 유일한 회사입니다.

팀 그린은 TSMC, 시놉시스, 장비 제조업체 ASML과 협력하여 cuLitho를 개발했으며, 올해 6월에 cuLitho가 생산 자격을 갖출 것으로 예상한다고 밝혔습니다.